产地：英国
品牌：SPTS
该系统处理模块具有较高灵■活性，并刻蚀广泛的材料，包括氧化物，氮化物，聚合物，低纵横比Si和金属。该模块广泛适用于化合物半导体应用市场。
1. 设计具有双等离子〇体源和独立控制的一级和二级系统，拥有→独立的双进气系统，从而形成一个高浓▂度和均匀分布的工艺反应区高刻蚀速率及优良的均匀性
2. 高刻蚀速率及优良的均匀性
3. 有效控制晶圆的倾斜深度特征
4. 固有的灵活性允许互补型氧♀化物在相同硬件配置下刻蚀
5. 提供较高的生产效率和良好的工艺能力
典型材料
Si，SiO2 (including deep oxide etch >100 μm)，Glass，SiNx，SiC，GaN，PZT and AlN，Al2O3，GaAs，GaN，SixNy，BCB and Polyimide
主要应用市场：TSV, MEMS, RF-IC, Power Devices, LED
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